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    國產光刻機啟示錄:中國芯片廠商要吸取日本半導體教訓
    2018-12-26管理員3102

    轉載自百家號作者:湖北青年郭仕亮

            發展國產芯片是14億的中國老百姓的共同心愿,為了制造出擁有自主技術的“中國芯”,很多卓越的工程師在日夜奮戰,制造國產芯片只是中國芯片發展的重要一步,我們更要掌握很多半導體核心裝備的國產化,比如高端芯片光刻機。在這里,想提一個醒:中國光刻機廠商要重視吸取日本經驗教訓。

            要說當前高端光刻機的霸主是誰?很多人都會指向來自荷蘭的ASML,全世界能夠制造出7nm制程的EUV光刻機廠商僅此一家,國內芯片制造廠商中芯國際就耗資了一整年利潤向ASML訂購了一臺高端光刻機。雖然現實殘酷,但也警醒了我們。

            萬丈高樓平地起,ASML也不是一開始就這么“牛x”,起初他只是飛利浦公司的一個部門而已,那個時候全球的光刻機霸主是日本尼康、佳能。光刻機,顧名思義是要用到光學技術制造晶圓,日本有很多世界知名的光學品牌,在光刻機技術研究方面可謂是領先全球,20年前的intel,三星,臺積電的工程師們基本上都是使用尼康、佳能的光刻機,可日本光刻機為什么現在沒落了呢?

            這里面就不得不提到日本的“終身制勞動”,半導體是高精尖科技,“一步落后,步步落后”,如果老的科研人員占著位置,不提攜年輕科學家,那無異于扼殺技術創新。荷蘭ASML能夠取代日本尼康成為全球光刻機霸主,其中就有一種敢于冒險的精神。

            2007年,ASML和臺積電合謀研發一種浸沒式光刻機,而尼康和佳能覺得干式光刻機賣得很好,沒必要去重金投入研發那種不確定的浸沒式光刻技術,而且投資研發一種新型技術會帶來不確定,萬一做砸了呢?結果,ASML在浸沒式光刻機領域累計 1萬個以上專利。等到尼康、佳能想做的時候已經失去了機會,從此一蹶不振。


            直到今天,ASML依然不放松前沿技術研發,研發人員比重很大,有鑒于此,國產光刻機要堅持技術研發導向,產品更出色,市場終會向你走來,這就是半導體產業的游戲規則,臺積電率先完成7nm工藝,于是迅速拿下蘋果A12、華為麒麟980、高通855的訂單,反觀三星卻是“一步慢,步步慢”。

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